Lubang ozon mengacu pada jumlah ozon di atmosfer atas Antartika yang ditemukan untuk penurunan pada tingkat yang mengkhawatirkan. Lubang ditemukan melalui pengamatan situs di Antartika oleh J. C. Farman, B. G. Gardiner dan J. D. Shanklin. Ada adalah luas bukti yang menunjukkan klorin yang berasal dari kelas senyawa sintetis, chlorofluorocarbon (CFC), bertanggungjawab atas kehancuran lapisan ozon. CFC adalah molekul yang mengandung satu atau lebih atom klorin dan fluorin. Pada September 2006, lubang ozon atas Antartika wilayah terbesar yang pernah tercatat dan ini hampir tiga kali lebih besar daripada wilayah U. S. karena CFC jadi unreactive, mereka tidak rusak ketika dilepaskan ke udara di troposfer mana mereka tumpah. Dalam waktu, udara arus dan difusi membawa mereka ke stratosfer, dimana, di bawah pengaruh radiasi UV, mereka merilis klorin radikal yang memulai penghancuran ozon. Data yang dikumpulkan oleh NASA telah menunjukkan, meyakinkan, bahwa ada hubungan terbalik antara konsentrasi ozon dan klorin monoksida yang radikal di stratosphere; ClO dibentuk oleh serangan atom klorin O ₃. CFC adalah sangat berguna inert, nontoxic, nonflammable senyawa yang telah digunakan selama bertahun-tahun sebagai pendingin dan sebagai semprot dapat dikompress untuk bentuk aerosol semprotan rambut dan deodoran. Mereka telah tak tertandingi sebagai pelarut untuk membersihkan elektronik microcircuits. Komersial, yang paling penting CFC methanes penghambat nyala berhalogen, Freon-11 (trichlorofluoromethane) dan Freon-12 (dichlorodifluoromethane). Lebih dari 50% asma inhaler berisi chlorofluorocarbon sebagai pelarut dan gas propellent. CFC ini memiliki relatif baru-baru ini telah dilarang di semua produk kecuali di dispenser obat inhalasi tersebut untuk penderita asma dan beberapa lainnya pengecualian terbatas. Di Finlandia saja ada lebih dari satu juta dispenser obat yang membubarkan freons ke atmosfer. Ini sama dengan konsentrasi freon alat-alat pendingin di sekitar l00, 000 kulkas. Melihat lubang ozon Antartika untuk lebih banyak.